Поиск по сайту | |||
|
Короткий путь http://bibt.ru Адрес этой страницы' ?> <<Предыдущая страница Оглавление книги Следующая страница>> Химическое лужение. Дефекты при химическом лужении.Лужение химическое.Лужение. Чтобы предотвратить окисление поверхности деталей из меди и ее сплавов, которое значительно затрудняет пайку, применяют химическое лужение. Наибольшее применение нашел раствор (в г/л): SnCl2•2H2O 5-8 NH2CSNH2 35-45 H2SO4 30-40 Температура 20 ±5 °С, плотность загрузки 0,5 дм2/л. скорость осаждения 0,5 — 1,0 мкм/ч. В 1 л раствора можно покрыть 30 — 50 дм2 поверхности. В радиоэлектронной промышленности детали из меди и ее сплавов лудят в следующем растворе (в г/л): Олово двухлористое 10 — 20 Тиомочевина 80-90 Кислота соляная, мл/л 15—20 Натрий хлористый 75 — 80 Температура 60 ± 5 °С, время выдержки 25 — 30 мин, плотность загрузки 2 — 3 дм2/л, предельная толщина покрытия 1 мкм. После лужения детали промывают проточной холодной и горячей водой по 0,5 мин, сушат при 90 ± 10°С и контролируют внешний вид и сплошность осадка. Для приготовления раствора необходимо в соляную кислоту добавить расчетное количество двухлористого олова и тщательно перемешать до полного растворения олова. Затем ввести необходимое количество хлористого натрия и тиомочевины. Раствор доводят до заданного объема дистиллированной водой и тщательно перемешивают. Растворы для химического лужения имеют одноразовое применение. Основные дефекты при химическом лужении: матовые пятна из-за неравномерного травления деталей перед покрытием; слишком тонкое покрытие либо отсутствие его при истощении раствора и плохой подготовке деталей или слишком интенсивном перемешивании раствора. Петр Степанович Мельников. Справочник по гальванопокрытиям в машиностроении, 1979.
|
||
| Помогите другим людям найти библиотеку разместите ссылку: |